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刻蚀系列产品
    ICP刻蚀机
    SINO Plasma200/2000/6000/7000ICP

    产品工艺应用类型有Si&Poly刻蚀、介质膜刻蚀、金属刻蚀、深硅刻蚀、碳化硅刻蚀、氮化镓刻蚀、氮化铝刻蚀、光波导刻蚀等。
     应用于Si基工艺、化合物(包含GaN&GaAs&SiC等)、MEMS领域、滤波器、光通信、微显示、光学微加工等领域。
     可根据用户的产品需求灵活的配置不同类型的传送平台,适合院校、研发线、中试线、大规模产线的不同应用需求。
     可根据用户应用场景提供不同的工艺配置项,以适用于不同膜层的刻蚀,达到客户的需求。
     运营成本低。



    CCP刻蚀机
    SINO Plasma200/2000/6000/7000CCP

     产品应用工艺有 Contact/Via刻蚀、Spacer刻蚀、Passivation刻蚀、Hardmask刻蚀、SAB刻蚀、Etch Back。
     应用于Si基工艺、化合物(包含GaN&GaAs&SiC等)、MEMS领域、光通信等领域。
     可根据用户的产品需求灵活的配置不同类型的传送平台,适合研发、中试线、大规模产线的不同应用需求。
     运营成本低。

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